日本發(fā)明加熱重結(jié)晶法 改進薄膜單晶硅構(gòu)造
文章來源：未知 更新時間：2018-03-28 14:20:12
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據(jù)悉，來自日本東京工業(yè)大學和早稻田大學的一個研究小組已經(jīng)開發(fā)出一種生產(chǎn)薄膜單晶硅太陽能電池的新技術，該技術有望顯著降低生產(chǎn)成本，同時保持電池的轉(zhuǎn)化效率。 科學家聲稱他們能夠開發(fā)出高質(zhì)量薄膜單晶硅，厚度約10μm，晶體缺陷密度也有所降低。硅的密度已經(jīng)降低到了硅晶圓純度的水平。 研究小組解釋說，具有高結(jié)晶質(zhì)量的單晶薄膜是通過區(qū)域加熱重結(jié)晶法(ZHR法)使硅片表面粗糙度達到0.2至0.3nm而獲得的。“使用雙層多孔硅層可以容易地剝離生長的薄膜，而且得到的基底可以被再利用或者用作薄膜生長的蒸發(fā)源，這大大減少了材料的損耗。” 據(jù)科學家介紹，這一實驗過程同時還證明了在0.1-0.2nm范圍內(nèi)的硅片表面粗糙度對晶體缺陷密度的形成具有重要的影響。 |
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