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現有方法多在剛性無機基底上制備MOF膜。為突破膜放大制備難度大、膜組件加工制作靈活性差的技術瓶頸，趙之平團隊制備出了一種高柔性MOF納米片（MOF-NS）膜。

為解決MOF層與聚合物基底之間的表界面結合問題，研究團隊將ZIF-8晶種共混到聚合物鑄膜液中，并采用非溶劑致相分離（NIPS）法，巧妙制備了在聚合物基底內嵌入“芽狀”晶種的聚偏氟乙烯膜。嵌入聚合物基底的“芽狀”晶種不僅成為MOF納米片與聚合物連接的“錨點”，其獨特的花瓣狀片結構也為納米片生長奠定了基礎。以此為基底，通過誘導MOF限域生長，團隊調控制備出了完整蜂窩狀MOF納米片膜。通過X射線衍射和蒙特卡洛分子模擬方法，解析了MOF納米片的晶體結構及其內部傳質通道，其拓撲結構以厚度為0.525納米的[Zn2（MeIm）4]n為網格狀平面，包含0.435納米的亞納米級層間通道，揭示ZIF-8晶種在NIPS法成膜過程中發生了晶格畸變。

在電子顯微鏡下，通過調節觀測區域的電子束轟擊密度，首次捕捉到MOF納米片的可逆柔性形變，納米片厚度約13納米。MOF納米片在透射電鏡下展現出不同于ZIF-8的良好晶格結構。蜂窩狀MOF納米片的片層結構及其內部連續通道，使其在滲透汽化過程中展現了超高滲透性。

MOF納米片膜經聚二甲基硅氧烷溶液滴涂改性，形成具有蜂窩狀結構的PDMS涂層，不僅修復了MOF納米片間的分子尺度缺陷，同時實現了膜表面特性從超親水到超疏水的轉變，構建了兼具超疏水表面特性和膜內MOF-NS快速分子擴散通道的雙功能膜。