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新材料比傳統(tǒng)閃存快5000倍
文章來源: OFweek新材料網(wǎng)     更新時間:2021-05-27 15:09:44

 信息技術(shù)盛行的當(dāng)下,作為信息產(chǎn)業(yè)關(guān)鍵底座的存儲系統(tǒng),也在發(fā)生巨大的變化。

以過去十年為例,閃存介質(zhì)快速崛起,硬盤容量從數(shù)百GB走向數(shù)十TB;新型網(wǎng)絡(luò)互聯(lián)技術(shù)不斷迭代,各種各樣的新概念迭起,比如數(shù)據(jù)分級、重復(fù)數(shù)據(jù)刪除、RAID 2.0、分布式EC、FCoE、NVMe等;多樣的新型態(tài)存儲技術(shù)不斷更新,比如融合存儲、CI、HCI、公有云存儲、SDS、對象存儲等。

就閃存技術(shù)而言,現(xiàn)在,研究人員已經(jīng)開發(fā)出了非易失性存儲器,僅需幾納秒的時間即可寫入數(shù)據(jù)。這使其比商用閃存快數(shù)千倍,并且速度與大多數(shù)計算機(jī)中的動態(tài)RAM相當(dāng)。目前,研究人員已在《自然納米技術(shù)》雜志上在線詳細(xì)介紹了他們的發(fā)現(xiàn)。

新設(shè)備由原子薄的二維材料層組成。先前的研究發(fā)現(xiàn),當(dāng)兩層或更多層不同材料的原子薄層彼此疊置以形成所謂的異質(zhì)結(jié)構(gòu)時,就會出現(xiàn)新的雜化性質(zhì)。這些層通常通過稱為 van der Waals interactions的弱電保持在一起,該力通常會使tapes 粘在一起。

中國科學(xué)院物理研究所的科學(xué)家及其同事指出,硅基存儲器的速度最終受到限制,因為超薄硅膜上不可避免的缺陷會降低性能。他們認(rèn)為,原子上平坦的van der Waals異質(zhì)結(jié)構(gòu)可以避免此類問題。

研究人員制造了van der Waals異質(zhì)結(jié)構(gòu),該結(jié)構(gòu)由硒化銦(indium selenide)半導(dǎo)體層,六方氮化硼(hexagonal boron nitride)絕緣層和位于二氧化硅和硅晶圓頂部的多個導(dǎo)電石墨烯層組成。僅持續(xù)21納秒的電壓脈沖可以將電荷注入石墨烯以寫入或擦除數(shù)據(jù)。這些脈沖的強(qiáng)度與商用閃存中用于寫入和擦除的脈沖的強(qiáng)度大致相同。

除了速度之外,這種新存儲器的一個關(guān)鍵特性是可以進(jìn)行多位存儲。常規(guī)的存儲設(shè)備可以通過在例如高導(dǎo)電狀態(tài)和低導(dǎo)電狀態(tài)之間切換來存儲零或一的數(shù)據(jù)位。研究人員指出,他們的新設(shè)備理論上可以存儲具有多種電狀態(tài)的多個數(shù)據(jù)位,每種狀態(tài)均使用不同的電壓脈沖序列進(jìn)行寫入和擦除。

科學(xué)家們預(yù)計他們的設(shè)備可以存儲10年的數(shù)據(jù)——新存儲器不僅速度快了大約5,000倍,而且可以存儲多個數(shù)據(jù)位,而不僅僅是零和一。這是一個技術(shù)創(chuàng)新的時代,創(chuàng)新在各行業(yè)都在發(fā)生,越多的創(chuàng)新也進(jìn)一步為未來提供越多的可能,包括閃存。

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