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南工大制備超薄半導體材料
文章來源:未知     更新時間:2019-04-10 15:03:23

據悉, 近日,南京工業大學王琳教授課題組采用簡單快速高效的合成方法,成功制備出超薄的高質量二維碘化鉛(PbI2)晶體,并且通過它實現了對二維過渡金屬硫化物材料光學性質的調控。相關成果發表在國際權威期刊《先進材料》上。

  “我們制備的這一超薄PbI2納米片,專業術語稱為‘原子級厚度的寬禁帶二維PbI2晶體’,是一種超薄的半導體材料,厚度只有幾個納米。我們采用溶液法合成工藝,這種方法對設備要求很低,具有簡單、快速、高效的優點,能夠滿足大面積和高產量的材料制備需求。”論文第一作者、南工大博士生孫研說,“之后,我們把這一超薄的PbI2納米片與二維過渡金屬硫化物(TMDs)結合,進行人工設計,把它們堆疊到一起,制備出不同類型的PbI2/TMDs異質結。因為能級排列方式不一樣,因此PbI2對不同TMDs材料的光學表現有不同影響。”

  這一工作成果實現了超薄PbI2對二維過渡金屬硫化物材料光學性質的調控,充分展現了其在二維材料能帶工程中的靈活性和多樣性。與傳統以硅基材料為主體的光電子器件相比,這一新方法由于所采用的材料具有柔性、微納尺寸特點,因此可以應用在制備柔性化、可集成的光電子器件方面,也為制造太陽能電池、光電探測器等提供了新思路。

 
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